发明名称 OXIDE SINTER PROCESS FOR PRODUCING THE SAME TARGET AND TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM AND TRANSPARENT CONDUCTIVE SUBSTRATE BOTH OBTAINED FROM THE TARGET
摘要 본 발명은 고속 성막과 무노듈(nodule-less)을 실현할 수 있는 스퍼터링용 타겟 또는 이온 도금용 타블렛, 그것을 얻는데 최적인 산화물 소결물체와 그것의 제조 방법, 그것을 이용해 얻어지고 청색광의 흡수가 적은 낮은 저항의 투명 도전막에 관한 것이다. 따라서, 본 발명은 인듐과 갈륨을 산화물로서 함유하고 있고, 빅스바이트형 구조의 InO상이 주요 결정상을 형성하며, β-GaO형 구조의 GaInO상, 또는 GaInO상과 (Ga, In)O상이 평균 입경 5 ㎛ 이하의 결정립으로 InO상에 미세하게 분산되어 있고, 갈륨의 함량이 Ga/(In+Ga)의 원자수비로 10 원자% 이상 내지 35 원자% 미만인 것을 특징으로 하는 산화물 소결물체를 제공한다.
申请公布号 KR101627491(B1) 申请公布日期 2016.06.07
申请号 KR20097027405 申请日期 2008.07.02
申请人 스미토모 긴조쿠 고잔 가부시키가이샤 发明人 나카야마, 토쿠유키;아베, 요쉬유키
分类号 B32B9/00;C04B35/00;C23C14/32;H01B5/14 主分类号 B32B9/00
代理机构 代理人
主权项
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