| 发明名称 |
Systeme und Verfahren zum Messen von Leistung in Lithographiesystemen |
| 摘要 |
Systeme und Verfahren zum Messen von Leistung in Lithographiesystemen werden offenbart. Eine bevorzugte Ausführungsform weist ein messtechnisches Verfahren auf, das das Bereitstellen eines Lithographiesystems und Messen einer Leistungsmenge des Lithographiesystems unter Einsatz des Compton-Effekts aufweist.
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| 申请公布号 |
DE102007033632(A1) |
申请公布日期 |
2008.03.20 |
| 申请号 |
DE200710033632 |
申请日期 |
2007.07.19 |
| 申请人 |
QIMONDA AG |
发明人 |
SCHWARZL, SIEGFRIED;WURM, STEFAN |
| 分类号 |
G03F7/20;G01J1/00;G01M11/02 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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