发明名称 PERHYDROPOLYSILAZANE, COMPOSITION CONTAINING SAME, AND METHOD FOR FORMING SILICA FILM USING SAME
摘要 [과제] 결함이 적은 실리카질막을 형성할 수 있는 퍼하이드로폴리실라잔과 이를 포함하는 경화용 조성물의 제공. [해결 수단] 본 발명에 의하면, 중량 평균 분자량이 5,000 이상 17,000 이하인 퍼하이드로폴리실라잔으로서, 상기 퍼하이드로폴리실라잔을 크시롤에 용해시킨 17중량% 용액의H-NMR을 측정했을 때, 크시롤의 방향족환 수소의 양을 기준으로 한 SiH의 양의 비가 0.235 이하, NH의 양의 비가 0.055 이하인 것을 특징으로 하는 퍼하이드로폴리실라잔과, 이를 포함하는 경화용 조성물이 제공된다. 본 발명은, 그 경화용 조성물을 기재 위해 도포하고, 가열하는 것을 포함하는 실리카질막의 형성 방법도 제공하는 것이다.
申请公布号 KR20160096671(A) 申请公布日期 2016.08.16
申请号 KR20167018321 申请日期 2014.12.08
申请人 AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.A.R.L. 发明人 OKAMURA TOSHIYA;KANDA TAKASHI;SAKURAI ISSEI;BARNICKEL BERND BERTRAM;AOKI HIROYUKI
分类号 H01L21/02;C01B21/087 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人
主权项
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