光刻装置和使用光刻模拟技术优化照明光源的方法

摘要

一种利用计算机模拟技术用于优化光刻照明条件的方法，所述光刻装置包括一个照明器以及一个投影系统，所述方法包括确定要印刷在基底上的光刻图案；选择模拟模型；选择照明器的光瞳平面中源点格栅；计算个别源点的单独响应，每个响应表示一个或一系列使用模拟模型的模拟结果；以及在单独计算值累计结果的分析基础上调节照度分布。

主权项

1.一种用于利用计算机模拟技术优化光刻装置照明条件的方法，所述光刻装置包括一个照明器和一个投影系统，所述方法包括：确定要印刷在基底上的光刻图案；选择模拟模型；选择照明器的光瞳平面中的一格栅的源点；计算个别源点的单独响应，每个响应表示一个或一系列使用模拟模型的模拟结果；以及在单独计算值累计结果的分析基础上调节照度分布。