托盘、MOCVD反应腔和MOCVD设备

摘要

本发明公开了一种托盘、MOCVD反应腔和MOCVD设备。该托盘包括：托盘基体和设置于所述托盘基体上的衬底，所述托盘基体上设置有凹槽，所述凹槽中放置有导热部件，所述导热部件与所述衬底相接触，所述导热部件的导热系数大于所述托盘基体的导热系数。本发明中，托盘包括托盘基体和设置于托盘基体上的衬底，托盘基体上设置有凹槽，凹槽中放置有导热部件，导热部件与衬底相接触，导热部件的导热系数大于托盘基体的导热系数，由于导热部件的导热性能更好，因此导热部件的表面温度更加均匀，从而能够改善衬底的温度均匀性，提高了托盘加热温度的均匀性。

主权项

一种托盘，其特征在于，包括：托盘基体和设置于所述托盘基体上的衬底，所述托盘基体上设置有凹槽，所述凹槽的周边形成有边沿，所述凹槽中放置有导热部件，所述导热部件与所述衬底相接触，所述导热部件的导热系数大于所述托盘基体的导热系数，所述凹槽的数量为多个，所述凹槽之间形成有石墨楞，所述衬底覆盖于所述边沿和所述石墨楞上。