| 主权项 |
一种光学薄膜，其之Re(λ)与Rth(λ)满足以下二式：0≦Re(590)≦10 |Rth(590)|≦25其中Re(λ)为在λ奈米波长处之面内迟滞值(奈米)；及Rth(λ)为在λ奈米波长处之薄膜厚度方向迟滞值(奈米)。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中光学薄膜满足下式(IX)：(IX)|ReMAX-ReMIN|≦3及|RthMAX-RthMIN|≦5其中ReMAX与RthMAX为1米平方之任意切开薄膜片之最大迟滞值(奈米)；及ReMIN与RthMIN为其最小迟滞值(奈米)。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中Re与Rth至少之一在拉伸或收缩15%以上时显示0至20奈米之变化。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中Re与Rth至少之一在拉伸或收缩0%以上但小于15%时显示0至10奈米之变化。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其满足下式(IV)：(IV)|Re(400)-Re(700)|≦10及|Rth(400)-Rth(700)|≦35。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中光学薄膜系由醯化纤维素制成，此醯化纤维素之醯基取代基均为乙醯基，其总取代程度为2.50至3.00，且其平均聚合程度为180至700。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中光学薄膜包括一种满足下式(SE-1)至(SE-3)指定之所有要求之醯化纤维素：(SE-1)2.50≦SA+SB≦3.00 (SE-2)0≦SA≦2.5 (SE-3)0.5≦SB≦3.00其中SA为乙醯基取代程度；及SB为具有3至22个碳原子之经取代醯基之取代程度。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中光学薄膜包括降@sIMGCHAR!d10165.TIF@eIMG!烯聚合物。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中其具有25x10-13平方公分/达因以下之光弹性系数。如申请专利范围第1项之光学薄膜，其中光学薄膜之经硷皂化表面之接触角为55°以下。一种光学补偿薄膜，其包括：Re(590)为0至200奈米且|Rth(590)|为0至400奈米之光学各向异性层；及如申请专利范围第1项之光学薄膜。如申请专利范围第11项之光学补偿薄膜，其中光学各向异性层包括聚合物薄膜。如申请专利范围第12项之光学补偿薄膜，其系藉由将液化固体聚合物散布且固定于如申请专利范围第1项之光学薄膜上以形成层合物(其包括由液化固体聚合物之固化物质制成之具有nx@sIMGCHAR!d10166.TIF@eIMG!ny关系之透明薄膜、与光学薄膜)，使层合物接受拉伸处理及收缩处理而构成，其中nx表示沿薄膜面内迟相轴之折射率，及ny表示沿垂直薄膜面内迟相轴之方向之折射率。如申请专利范围第13项之光学补偿薄膜，其中拉伸处理及收缩处理至少之一系在高于固态聚合物与光学薄膜之玻璃转移温度之温度进行。如申请专利范围第13项之光学补偿薄膜，其系如下制成：在将液化固体聚合物散布及固定于光学薄膜上之前，使光学薄膜接受拉伸处理及收缩处理至少之一；将液化固体聚合物散布且固定于光学薄膜上；及在完成散布及固定后，使层合物(其包括由液化固体聚合物之固化物质制成之具有nx@sIMGCHAR!d10167.TIF@eIMG!ny关系之透明薄膜、与光学薄膜)接受拉伸处理及收缩处理至少之一。如申请专利范围第13项之光学补偿薄膜，其中层合物之拉伸处理及收缩处理至少之一系以光学薄膜中之残留溶剂含量为1.5质量%以下之状态进行。如申请专利范围第13项之光学补偿薄膜，其中在将液化固体聚合物散布及固定于光学薄膜上之前，光学薄膜之拉伸处理及收缩处理至少之一系以光学薄膜中之残留溶剂含量为1.5至70质量%之状态进行。如申请专利范围第13项之光学补偿薄膜，其中在拉伸处理及收缩处理至少之一之后，层合物中透明薄膜与光学薄膜中之残留溶剂含量各为1.5质量%以下。如申请专利范围第12项之光学补偿薄膜，其中聚合物薄膜与固体聚合物至少之一包括至少一员选自聚醯胺、聚醯亚胺、聚酯、聚醚酮、聚芳基醚酮、聚醯胺醯亚胺、与聚酯醯亚胺。如申请专利范围第11项之光学补偿薄膜，其中光学各向异性层包括显示负双折射之聚合物。一种偏光板，其包括至少一种选自如申请专利范围第1项之光学薄膜与如申请专利范围第11项之光学补偿薄膜之薄膜，及偏光板。一种液晶显示单元，其包括如申请专利范围第1项之光学薄膜、如申请专利范围第11项之光学补偿薄膜、或如申请专利范围第21项之偏光板。如申请专利范围第22项之液晶显示单元，其为VA型液晶显示单元。一种自发光显示单元，其包括如申请专利范围第1项之光学薄膜、如申请专利范围第11项之光学补偿薄膜、或如申请专利范围第21项之偏光板。 |
