| 发明名称 | 化学增幅光阻剂组成物 | ||
| 摘要 | 本发明是有关于一种化学增幅光阻剂组成物，是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物其中R<SUP>1</SUP>为氢、C<SUB>1</SUB>－C<SUB>4</SUB>的烷基、三氟甲基(CF<SUB>3</SUB>)；Q为C<SUB>4</SUB>－C<SUB>12</SUB>的环状烷基；R<SUP>2</SUP>为：H、C<SUB>1</SUB>－C<SUB>4</SUB>的烷基、三氟甲基(CF<SUB>3</SUB>)；R<SUP>3</SUP>为C<SUB>4</SUB>－C<SUB>12</SUB>的分枝状或环状烷类的酸敏感基；且x+y+z＝1。本发明中的化学增幅光阻剂组成物，可以应用于目前一般的微影制程法，尤其针对于波长193nm光源的微影制程法，能得到优良的微影图形、解析度、轮廓与感光度。 | ||
| 申请公布号 | CN1538241A | 申请公布日期 | 2004.10.20 |
| 申请号 | CN03110144.5 | 申请日期 | 2003.04.14 |
| 申请人 | 台湾永光化学工业股份有限公司 | 发明人 | 陈启盛;蔡茜茜;简镔;廖信明 |
| 分类号 | G03F7/038 | 主分类号 | G03F7/038 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 汤保平 |
| 主权项 | 1.一种化学增幅光阻剂组成物，其特征在于，其是含有如下式(I)结构单元的高分子聚合物<img file="A031101440002C1.GIF" wi="1291" he="497" />其中R<sup>1</sup>为氢、C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>的烷基、三氟甲基；Q为C<sub>4</sub>-C<sub>12</sub>的环状烷基；R<sup>2</sup>为：氢、C<sub>1</sub>-C<sub>4</sub>的烷基、三氟甲基；R<sup>3</sup>为C<sub>4</sub>-C<sub>12</sub>的分枝状或环状烷类的酸敏感基；且x+y+z＝1。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市 | ||