发明名称 METHOD FOR TREATING A PROCESS MATERIAL WITH LARGE SURFACE PLASMA
摘要 <p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung eines Prozessgutes, wobei das Prozessgut mit, vorzugsweise nichtthermischem, großflächigem Plasma, vorzugsweise bei mindestens Atmosphärendruck, in Kontakt gebracht, das Plasma in unmittelbarer Nähe zu dem Prozessgut erzeugt oder in dem Prozessgut oder in unmittelbarer Umgebung eine Gasentladung, insbesondere eine Koronaentladung, vorzugsweise bei mindestens Atmosphärendruck erzeugt wird. Um die Behandlung des Prozessgutes mit Plasma zu verbessern und die Effektivität zu steigern, werden zur Erzeugung des Plasmas bzw. der Gasentladung zwischen Elektroden (43, 44) Hochspannungsimpulse (66, 67) mit einer Dauer (62) von weniger als 10 µs erzeugt.</p>
申请公布号 WO2006134075(A1) 申请公布日期 2006.12.21
申请号 WO2006EP63049 申请日期 2006.06.09
申请人 SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT;HARTMANN, WERNER;FIGALIST, HELMUT 发明人 HARTMANN, WERNER;FIGALIST, HELMUT
分类号 D21C9/00;D21C9/10;D21H25/04 主分类号 D21C9/00
代理机构 代理人
主权项
地址