| 摘要 |
Изобретение относится к устройству для обработки и/или покрытия поверхности компонентов подложки посредством осаждения из газовой фазы, в частности, посредством физического осаждения из газовой фазы в соответствии с PVD-процессом (физическое осаждение паров) или реактивным PVD-процессом. В эвакуируемой камере осаждения, соответственно, обработки расположено несколько держателей подложки и несколько блоков покрытия и/или обработки, такие как, например, источники испарения, катоды, мишени, магнетроны, нитевой катод и анод травления. Для более эффективного использования установки предусмотрена ее модульная комплектация так, что установленные за одну загрузку в установке компоненты подложки могут подвергаться различной обработке (покрытию, обработке поверхности). Кроме того, изобретение относится к новому способу обработки и/или покрытия поверхности компонентов подложки, с помощью которого установки для нанесения покрытия с использованием PVD-процесса (физическое осаждение паров) или реактивного PVD-процесса могут работать значительно более экономично. Способ характеризуется тем, что содержит следующие этапы способа: а) компоновки блоков покрытия и/или обработки (испарители, катоды, мишени, магнетроны, нитевой катод и анод травления), а также экранирующих элементов в виде модулей в камере осаждения, или соответственно, обработки в соответствии с желаемой программой покрытия, или соответственно, обработки для компонентов подложки; b) комплектации держателей подложки теми компонентами подложки, которые должны подвергаться одинаковой обработке; с) закрывания камеры осаждения, соответственно, обработки; и d) вы� |
