フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法及び酸発生剤

摘要

本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び下記式（１）で表される化合物を含む酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物である。下記式（１）中、Ｒ１は、置換若しくは非置換の炭素数１〜３０の１価の炭化水素基又は置換若しくは非置換の環原子数３〜３０の１価の複素環基である。Ｒ２は、炭素数１〜３０のアルカンジイル基又はフッ素数が炭素数よりも小さい炭素数２〜３０のフッ素化アルカンジイル基である。Ｑ＋は、１価の光分解性有機カチオンである。