发明名称 一种用于大理石抛光液的制备方法
摘要 本发明公开了一种用于大理石抛光液的制备方法及其在大理石生产和翻新中的抛光工艺中应用。其特征是,按如下组成质量百分浓度加入,去离子水:48~58%,聚马来酸酐:0.5~2.0%,聚乙二醇:0.5~2.0%,AlN‑CeO<sub>2</sub>复合物:40~50%,各组分之和为百分之百,搅拌,用氨水调节pH为中性,即得大理石抛光液。该制备工艺简单,条件易于控制,生产成本低,易于工业化生产。用于大理石抛光过程,具有粉体抛光效果好,光泽度,可达98度以上,划痕数量少,平整度高,粉的用量少。
申请公布号 CN105925199A 申请公布日期 2016.09.07
申请号 CN201610292719.6 申请日期 2016.05.05
申请人 济南大学 发明人 李慧芝;翟殿棠;杨春霞
分类号 C09G1/02(2006.01)I 主分类号 C09G1/02(2006.01)I
代理机构 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 代理人 李茜
主权项 一种用于大理石抛光液的制备方法,其特征在于,该方法具有以下工艺步骤:(1)A液制备:在反应器中,按如下组成质量百分浓度加入,去离子水:52~60%,草酸:10~18%,焦磷酸钠:0.5~2.0%,搅拌溶解后,加入纳米氮化铝:25~35%,各组分之和为百分之百,超声分散1~2 h,制得A液;(2)B液制备:在反应器中,按如下组成质量百分浓度加入,去离子水:60~70%,水溶性铈盐:30~40%,各组分之和为百分之百,搅拌溶解,制得B液;(3)AlN‑CeO<sub>2</sub>复合物的制备:在搅拌下,将B液加入A液中,其A液与B液的体积比在1:1~1.2之间,搅拌,加入氨水调节pH在8.0~9.5之间,反应3~5 h,离心分离,水洗至中性,固体经110℃干燥后,在950℃~1000℃焙烧4~6 h,冷却后,经气流粉碎,即得AlN ‑CeO<sub>2</sub>复合物,复合物的粒径为1.0~10μm;(4)大理石抛光液的制备:在反应器中,按如下组成质量百分浓度加入,去离子水:48~58%,聚马来酸酐:0.5~2.0%,聚乙二醇:0.5~2.0%,AlN ‑CeO<sub>2</sub>复合物:40~50%,各组分之和为百分之百,搅拌,用氨水调节pH为中性,即得大理石抛光液。
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