发明名称 基板处理方法及基板处理装置
摘要 本发明之基板处理方法包含:洗净处理步骤,对处理对象之基板的主面供给纯水以洗净该基板;乾燥前处理步骤,接着对上述基板之主面供给包含挥发性比纯水还高之有机溶剂的乾燥前处理液,将残留于该主面之纯水置换为乾燥前处理液;及乾燥处理步骤,最后除去供给于上述基板之主面的乾燥前处理液以使该基板乾燥。上述乾燥前处理步骤包含:纯水和有机溶剂混合液供给步骤,将包含纯水与上述有机溶剂之混合液作为上述乾燥前处理液而供给于上述基板之主面;及混合比变更步骤,于进行该纯水和有机溶剂混合液供给步骤之期间内,在包含纯水和上述有机溶剂的混合液中增加上述有机溶剂之比例。
申请公布号 TWI357618 申请公布日期 2012.02.01
申请号 TW096121139 申请日期 2007.06.12
申请人 大日本斯克琳制造股份有限公司 日本 发明人 林豊秀
分类号 H01L21/304 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项
地址 日本