发明名称 EMD PLASMA ETCHING SYSTEMS AND METHODS USING EMPIRICAL MODE DECOMPOSITION
摘要 기판 에칭 시스템은 에칭 제어 모듈, 필터링 모듈, 및 엔드포인트 모듈을 포함한다. 에칭 제어 모듈은 에칭 챔버 내에서 기판의 플라즈마 에칭을 선택적으로 시작한다. 기판의 플라즈마 에칭 동안, 필터링 모듈은, 엔드포인트 정보를 포함하는 신호를 수신하고; EMD (empirical mode decomposition) 를 사용하여 신호를 분해하고; 그리고 EMD의 결과들에 기초하여 필터링된 신호를 생성한다. 엔드포인트 모듈은 필터링된 신호에 기초하여 기판의 플라즈마 에칭의 엔드포인트에 도달되는 때를 나타낸다. 에칭 제어 모듈은 기판의 플라즈마 에칭의 엔드포인트에 도달하였다는 지표에 응답하여 기판의 플라즈마 에칭을 종료한다.
申请公布号 KR20160126867(A) 申请公布日期 2016.11.02
申请号 KR20160042616 申请日期 2016.04.07
申请人 LAM RESEARCH CORPORATION 发明人 ALBAREDE LUC;KABOUZI YASSINE;LUQUE JORGE;BAILEY III ANDREW D.
分类号 H01L21/3065;H01L21/311;H01L21/3213;H01L21/67 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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