| 发明名称 | 废气处理方法和处理系统 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种处理从刻蚀或清洗步骤排放的含有氟气或卤素氟化物气体的废气的方法，包括使该废气在燃烧室中燃烧，该燃烧室具有在其表面上形成的氟化物钝化膜。该方法用于处理从半导体制造工艺中排放的含有高浓度或大量氟气或卤素氟化物气体的废气，该方法是安全和节能的，并能以提高的效率进行废气的预处理。 | ||
| 申请公布号 | CN1259524C | 申请公布日期 | 2006.06.14 |
| 申请号 | CN03800145.4 | 申请日期 | 2003.02.13 |
| 申请人 | 昭和电工株式会社;小池酸素工业株式会社 | 发明人 | 田口裕康;星野恭之;朴炳涉;金炳哲 |
| 分类号 | F23G7/06(2006.01);F23G5/44(2006.01);F23M5/00(2006.01) | 主分类号 | F23G7/06(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 林柏楠;刘金辉 |
| 主权项 | 1.一种废气处理方法，包括在燃烧室中燃烧从刻蚀或清洗步骤中排放的含有氟气或卤素氟化物气体的废气，在该燃烧室表面上具有形成的氟化物钝化膜。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||