| 发明名称 | 降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法，包括：步骤一、根据环境温度变化，计算该投影物镜的热折变焦面漂移与热变形焦面漂移以及总焦面漂移灵敏度三者值的大小和符号关系；步骤二、计算该投影物镜的单个镜片在环境温度变化下的热折变焦面灵敏度；步骤三、选择该单个镜片中热折变焦面灵敏度高且与该总焦面漂移灵敏度相反的镜片；步骤四、将该步骤三中的镜片替换为折射率温度系数相反的镜片。 | ||
| 申请公布号 | CN105652599A | 申请公布日期 | 2016.06.08 |
| 申请号 | CN201410729220.8 | 申请日期 | 2014.12.04 |
| 申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 郭银章;刘国淦;朱立荣 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅 |
| 主权项 | 一种降低光刻投影物镜环境热效应影响的方法，其特征在于，包括：步骤一、根据环境温度变化，计算所述投影物镜的热折变焦面漂移与热变形焦面漂移以及总焦面漂移灵敏度三者值的大小和符号关系；步骤二、计算所述投影物镜的单个镜片在环境温度变化下的热折变焦面灵敏度；步骤三、选择所述单个镜片中热折变焦面灵敏度高且与所述总焦面漂移灵敏度相反的镜片；步骤四、将所述步骤三中的所述镜片替换为折射率温度系数相反的镜片。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 | ||