发明名称 功能性防反射层叠体
摘要 本发明提供在有机无机复合薄膜表面上层叠像透明导电性膜或气体阻隔性的薄膜这种具有高折射率且光的透射率低的无机薄膜时不仅呈现高透射率,而且与无机薄膜的密合性也优异的功能性防反射膜。本发明的功能性防反射层叠体是在树脂基体上依次形成了第1层、第2层的薄膜层叠体,其特征在于,第1层是含有a)式(I)R<sub>n</sub>SiX<sub>4-n</sub>(I)表示的有机硅化合物的缩合物和b)有机高分子化合物的、膜厚为500nm以上的有机无机复合薄膜,第2层是膜厚为10~300nm的透明导电性膜或气体阻隔膜,第2层的表面形成了高度为40~500nm、间距为50~400nm的微细凸凹结构,该功能性防反射层叠体在波长500~700nm的入射角12°的表面正反射率为3%以下。
申请公布号 CN104380150B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201380032030.4 申请日期 2013.07.01
申请人 日本曹达株式会社 发明人 熊泽和久;芝田大干;木村信夫
分类号 G02B1/11(2015.01)I 主分类号 G02B1/11(2015.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人 苗堃;金世煜
主权项 一种功能性防反射层叠体,其特征在于,是在树脂基体上依次形成了第1层、第2层的薄膜层叠体,第1层是含有如下a)和b)的、膜厚为500nm以上的有机无机复合薄膜,a)式(I)表示的有机硅化合物的缩合物,R<sub>n</sub>SiX<sub>4‑n</sub>   (I)式(I)中,R表示碳原子直接键合在Si上的有机基团,X表示羟基或水解性基团,n表示1或2,n为2时各R可以相同也可以不同,4‑n为2以上时各X可以相同也可以不同;b)有机高分子化合物,第2层是膜厚为10nm~300nm的透明导电性膜或气体阻隔膜,第2层的表面形成了高度为40nm~500nm、间距为50nm~400nm的微细凸凹结构,所述功能性防反射层叠体在波长500nm~700nm的入射角12°的表面镜面反射率为3%以下。
地址 日本东京都