Charged particle beamlet exposure system,申请号EP20070075242-传众专利搜索

发明名称	Charged particle beamlet exposure system
摘要
申请公布号	EP1830384(A3)	申请公布日期	2007.09.19
申请号	EP20070075242	申请日期	2004.05.27
申请人	MAPPER LITHOGRAPHY IP B.V.	发明人	WIELAND, MARCO JAN-JACO;KRUIT, PIETER
分类号	H01J37/30;H01J37/08;H01J37/317	主分类号	H01J37/30
代理机构		代理人
主权项
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