OVERCOAT COMPOSITIONS AND METHODS FOR PHOTOLITHOGRAPHY

摘要

포토레지스트 조성물 위에 적당하게 도포되는 탑코트 조성물이 제공된다. 바람직한 탑코트 조성물은 (i) 산 불안정한 그룹을 포함하는 질소-함유 모이어티를 포함한 제1 단위; 및 (ii) (1) 하나 이상의 소수성 그룹을 포함하고 (2) 상기 제1 단위와 구별되는 제2 단위를 포함하는 제1 폴리머를 포함한다.