| 摘要 |
Ein Multisäulen-Elektronenstrahl-Bestrahlungssystem umfasst: eine Vielzahl von Säulenzellen, die über einer einzelnen Halbleiterscheibe angeordnet sind und von denen jede eine Elektronenkanone und ein Ablenkmittel enthält, das einen Elektronenstrahl ablenkt, der von der Elektronenkanone abgestrahlt wird; ein gemeinsames Speichermittel, das gemeinsame Bestrahlungsdaten speichert, die durch die Vielzahl von Säulenzellen verwendet werden; und ein Größendatenkorrekturmittel, das für jede der Säulenzellen vorgesehen ist und das aus dem gemeinsamen Speichermittel Größendaten für einen variabel geformten Strahl empfängt, wobei auf diese Weise ein Korrekturbetrag der Größendaten ausgegeben wird. Der Korrekturbetrag sind Größendaten für den variabel geformten Strahl, welche dem Unterschied zwischen der Größe eines Photolackmusters, das mittels Spezifizierung einer intendierten Mustergröße gebildet wurde, und der intendierten Mustergröße entsprechen.
|
