发明名称 |
高压直流氮化镓基发光二极管及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供的一种高压直流氮化镓基发光二极管及其制造方法,包括衬底以及设置在所述衬底上的多个外延层;其中所述外延层包括依次设置在所述衬底表面上的氮化镓缓冲层、n型氮化镓层、多量子阱有源层及p型氮化镓层;在所述外延层上设有ITO透明导电层,所述外延层与所述ITO透明导电层形成LED单胞;相邻的所述LED单胞之间通过金属线互联。与现有技术相比,本发明的有益效果如下:三维ITO透明导电层可以有效提高光输出功率;通过调整ICP刻蚀工艺参数使梯形隔离沟槽的底角为120度~150度之间,以便互联金属线可以保形覆盖在隔离沟槽上,从而提高产品良率。 |
申请公布号 |
CN105655462A |
申请公布日期 |
2016.06.08 |
申请号 |
CN201511031187.2 |
申请日期 |
2015.12.31 |
申请人 |
上海交通大学 |
发明人 |
丁汉;刘胜;周圣军;郑晨居 |
分类号 |
H01L33/42(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L27/15(2006.01)I;H01L21/786(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L33/42(2010.01)I |
代理机构 |
上海汉声知识产权代理有限公司 31236 |
代理人 |
郭国中 |
主权项 |
一种高压直流氮化镓基发光二极管,包括衬底以及设置在所述衬底上的多个外延层;其中所述外延层包括依次设置在所述衬底表面上的氮化镓缓冲层、n型氮化镓层、多量子阱有源层及p型氮化镓层;其特征在于,在所述外延层上设有ITO透明导电层,所述外延层与所述ITO透明导电层形成LED单胞;相邻的所述LED单胞之间通过金属线互联。 |
地址 |
200240 上海市闵行区东川路800号 |