发明名称 高压直流氮化镓基发光二极管及其制造方法
摘要 本发明提供的一种高压直流氮化镓基发光二极管及其制造方法,包括衬底以及设置在所述衬底上的多个外延层;其中所述外延层包括依次设置在所述衬底表面上的氮化镓缓冲层、n型氮化镓层、多量子阱有源层及p型氮化镓层;在所述外延层上设有ITO透明导电层,所述外延层与所述ITO透明导电层形成LED单胞;相邻的所述LED单胞之间通过金属线互联。与现有技术相比,本发明的有益效果如下:三维ITO透明导电层可以有效提高光输出功率;通过调整ICP刻蚀工艺参数使梯形隔离沟槽的底角为120度~150度之间,以便互联金属线可以保形覆盖在隔离沟槽上,从而提高产品良率。
申请公布号 CN105655462A 申请公布日期 2016.06.08
申请号 CN201511031187.2 申请日期 2015.12.31
申请人 上海交通大学 发明人 丁汉;刘胜;周圣军;郑晨居
分类号 H01L33/42(2010.01)I;H01L33/00(2010.01)I;H01L27/15(2006.01)I;H01L21/786(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I 主分类号 H01L33/42(2010.01)I
代理机构 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 代理人 郭国中
主权项 一种高压直流氮化镓基发光二极管,包括衬底以及设置在所述衬底上的多个外延层;其中所述外延层包括依次设置在所述衬底表面上的氮化镓缓冲层、n型氮化镓层、多量子阱有源层及p型氮化镓层;其特征在于,在所述外延层上设有ITO透明导电层,所述外延层与所述ITO透明导电层形成LED单胞;相邻的所述LED单胞之间通过金属线互联。
地址 200240 上海市闵行区东川路800号
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