| 摘要 |
厚さが１０〜４０μｍのフィルム基材（１）上に、硬化膜（２）が形成された光学フィルム（Ｆ）において、フィルム基材（１）の幅手方向の両端部から５０ｍｍまでの各領域を、第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）とする。硬化膜（２）は、フィルム基材（１）上で、第１の領域（Ｒ１）における幅手方向の２０〜１００％の範囲、および第２の領域（Ｒ２）における幅手方向の２０〜１００％の範囲をそれぞれ覆うように形成されている。第１の領域（Ｒ１）および第２の領域（Ｒ２）のそれぞれにおける硬化膜（２）の表面に、硬化膜形成後にナーリング加工することで凹凸状のナーリング部（３）が形成されている。ナーリング部（３）は、硬化膜（２）の表面において、硬化膜（２）の各端部から幅手方向に３ｍｍ以上にわたって形成されている。 |
