| 发明名称 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA FORMATION D'UN FAISCEAU PLASMA. |
| 摘要 |
<p>La présente invention concerne un procédé et un dispositif pour la formation d'un faisceau plasma. - Selon l'invention, on forme ledit faisceau plasma par extraction et accélération des particules électriquement chargées d'un plasma à l'aide d'une grille polarisée avec des potentiels alternativement positifs et négatifs (b +, b-), de façon que ledit faisceau plasma soit au moins approximativement électriquement neutre.</p> |
| 申请公布号 |
FR2965697(A1) |
申请公布日期 |
2012.04.06 |
| 申请号 |
FR20100057890 |
申请日期 |
2010.09.30 |
| 申请人 |
ASTRIUM SAS;ECOLE POLYTECHNIQUE;CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) |
发明人 |
AANESLAND ANE;CHABERT PASCAL;IRZYK MICHAEL;MAZOUFFRE STEPHANE |
| 分类号 |
H05H1/24 |
主分类号 |
H05H1/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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