发明名称 特にマイクロリソグラフィー投影露光装置内のミラーの熱作動用装置
摘要 本発明は、特にマイクロリソグラフィー投影露光装置内のミラーの熱作動用の装置に関するものであり、このミラーは、ミラー基板(102,202)及び光学有効面(101,201)を有し、ミラー(100)の光学有効面に相当しない表面からこの光学有効面(101,201)の向きに延びる少なくとも1つのアクセスチャネル(110,111,112,210)も有し、可変に設定することができる冷却能力を有する冷却素子(120,220)が、少なくとも1つのアクセスチャネル(110,111,112,210)内に突出し、可変に設定することができる加熱能力を、ミラー基板(102,202)の光学有効面に隣接した領域内に結合させるための少なくとも1つの熱源が設けられ、冷却素子(120,220)の冷却能力、及び少なくとも1つの熱源の加熱能力を設定することによって、光学有効面(101,201)とミラー(100)の光学有効面に相当しない表面との間に熱流束が実現され、この熱流速は、温度勾配、及びこれに関連するミラー基板(102,202)の熱膨張係数の値の局所的変化を生じさせる。
申请公布号 JP2016517028(A) 申请公布日期 2016.06.09
申请号 JP20150562046 申请日期 2014.03.07
申请人 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 发明人 マルクス ハウフ
分类号 G03F7/20;G02B5/10;G02B26/08 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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