| 摘要 |
本発明は、次の連続した層、すなわち、（ａ）屈折率が１．４５と１．６５の間の無機ガラス製の透明な平坦基材（１）、（ｂ）無機粒子を含む粗い低屈折率層であって、該無機粒子はゾル−ゲル無機結合剤で前記基材の片面に付着していて、当該無機結合剤の表面近くの、又は表面の、又は表面から突出した無機粒子が０．１５μｍと３μｍの間に含まれる算術平均偏差Ｒaで特徴付けられる表面粗さを作り出していて、当該無機粒子と無機結合剤の両方が１．４５と１．６５の間の屈折率を有している、粗い低屈折率層、（ｃ）この粗い低屈折率層を覆っている、屈折率が１．８と２．１の間に含まれるエナメル製の高屈折率層、を含む透明な拡散性ＯＬＥＤ基材、及び当該拡散性ＯＬＥＤ基材を製造するための方法を対象としている。 |
