发明名称 |
一种新型硅片气体钝化装置主控制柜 |
摘要 |
本实用新型提出一种新型硅片气体钝化装置主控制柜,其包括上盖板,其内设有第一水平隔板,电路控制板固定在第一水平隔板上;第一水平隔板与底板之间设有第二水平隔板以及与第二水平隔板垂直的第三隔板,反应气体发生器固定在第二水平隔板上,反应气体分析仪设置于第二水平隔板与底板之间的容置空间内,气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板之间的容置空间内;左侧板上设有多个散热孔以及多个通气孔,所述多个通气孔用于连接臭氧、空气、压缩空气等气体管道;右侧板上设有控制面板、开关按钮以及多个散热孔。所述主控制柜结构紧凑,可将主控制柜直接固定安装在硅片处理产线支架上,主控制柜和气体喷淋组件之间仅需要较短的管道和电源线连接,既节省了材料的使用也使产线空间得到合理的利用。 |
申请公布号 |
CN205621757U |
申请公布日期 |
2016.10.05 |
申请号 |
CN201620467494.9 |
申请日期 |
2016.05.20 |
申请人 |
苏州中世太新能源科技有限公司 |
发明人 |
王振交;艾凡凡;韩培育 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
南京科知维创知识产权代理有限责任公司 32270 |
代理人 |
许益民 |
主权项 |
一种新型硅片气体钝化装置主控制柜,所述主控制柜大致呈长方体型构造,其特征在于,其包括上盖板,其内设有第一水平隔板,上盖板与第一水平隔板之间容置电路控制板,所述电路控制板固定在所述第一水平隔板上;第一水平隔板与底板之间设有第二水平隔板以及与第二水平隔板垂直的第三隔板,反应气体发生器固定在第二水平隔板上,反应气体分析仪设置于第二水平隔板与底板之间的容置空间内,气体流量仪表设置于第三隔板与右侧板之间的容置空间内;左侧板上设有多个散热孔以及多个通气孔;顶部设有多个管线接入口,右侧板上设有控制面板、开关按钮以及多个散热孔。 |
地址 |
215002 江苏省苏州市工业园区唯亭跨春路18号明德工业厂房5号楼2层 |