| 发明名称 | 曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种曝光方法，其包括下述步骤：在基板(P)上形成浸渍区域(LR)；经过浸渍区域(LR)内的液体(LQ)，向基板(P)照射曝光用光(EL)来对基板(P)进行曝光；使浸渍区域(LR)的液体(LQ)与基板(P)上的第1区域(S1～S37、101)相接触的接触时间的累计值不超过预定的容许值。 | ||
| 申请公布号 | CN101164145A | 申请公布日期 | 2008.04.16 |
| 申请号 | CN200680013413.7 | 申请日期 | 2006.04.28 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 白石健一;藤原朋春 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 左一平 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，其特征在于，包括下述步骤：在基板上形成浸渍区域；经过所述浸渍区域的液体，向所述基板照射曝光用光，对所述基板进行曝光；以及使所述浸渍区域的所述液体与所述基板上的第1区域相接触的接触时间的累计值不超过预定的容许值。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||