| 摘要 |
본 발명은 금/은 코어/셀 금속 나노입자를 표면에 포함하는 이산화티타늄 중공구조 나노입자 및 그 제조방법에 관한 것으로, 이산화티타늄 중공입자 표면에 황 작용기를 포함하는 실란을 도입하여 금속이온들이 이산화티타늄 표면에서 환원시킴으로써, 격자가 비슷한 금과 은을 차례로 환원한 결과 금/은 코어/셀 금속 나노입자를 표면에 포함하는 이산화티타늄 중공구조 나노입자의 제조하는 방법을 제공한다. 본 발명에 따르면, 간단하고 손 쉬운 방법으로 금/은 코어/셀 금속 나노입자를 표면에 포함하는 이산화티타늄 중공구조 나노입자를 용이하게 제조할 수 있는 장점을 가진다. 더욱이, 본 발명에서 제조될 수 있는 금/은 코어/셀 금속 나노입자를 표면에 포함하는 이산화티타늄 중공구조 나노입자의 크기는 처음 사용되는 실리카/이산화티타늄 코어/셀 크기에 따라서 나노 복합체의 크기에 제한이 없으며, 금과 은의 전구체 양에 따라 금/은 코어/셀 금속 나노입자의 코어 지름와 셀 두께를 조절이 가능하다. 이로 인해 같은 사이즈의 크기를 가지는 나노입자에 비해 중공구조적 특징으로, 효과적으로 표면적을 넓힐수 있고, 금 (540 nm) 또는 은(430 nm) 나노입자를 사용한 경우에 비해 더 넓은 플라즈몬 밴드가 (430-540 nm) 형성이 되어 광 흡수 및, 전자의 생성과 이동을 도와주는 효과를 얻을 수 있다. |
