发明名称 |
生产光学波导的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种生产光学波导的方法,其包括以下步骤:连续地涂覆芴衍生物层到连续基片上,并固化该层从而形成下部包层;连续地涂覆光敏性芴衍生物层到下部包层上;通过具有预定图案的光掩模连续地曝光涂覆了的光敏性芴衍生物层;连续地对曝光了的光敏性芴衍生物层进行曝光后加热;连续地显影加热的光敏性芴衍生物层以除去其中未曝光的区域,从而形成预定的图案;固化显影了的光敏性芴衍生物层,从而在下部包层上形成具有预定图案的芯层;和在下部包层上连续地涂覆芴衍生物层,以覆盖芯层,并固化芴衍生物层从而形成上部包层。 |
申请公布号 |
CN100456065C |
申请公布日期 |
2009.01.28 |
申请号 |
CN200510089320.X |
申请日期 |
2005.08.02 |
申请人 |
日东电工株式会社 |
发明人 |
宗和范;望月周;清水裕介;内藤龙介;薄井英之 |
分类号 |
G02B6/13(2006.01);G03F7/00(2006.01) |
主分类号 |
G02B6/13(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
张平元;赵仁临 |
主权项 |
1.一种生产光学波导的方法,其包括以下步骤:连续地将芴衍生物层涂覆到长片型平条形式的连续基材上,并固化该层从而形成下部包层;连续地将光敏性芴衍生物层涂覆到该下部包层上;通过具有预定图案的光掩模连续曝光涂覆了的光敏性芴衍生物层;连续对曝光了的光敏性芴衍生物层进行曝光后加热;连续显影加热后的光敏性芴衍生物层以除去其中未曝光的区域,从而形成预定图案;固化显影后的光敏性芴衍生物层,从而在下部包层上形成具有预定图案的芯层;和连续地将芴衍生物层涂覆到下部包层上以覆盖芯层,并固化芴衍生物层从而形成上部包层。 |
地址 |
日本大阪府 |