ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION RESIST FILM PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME AND RESIN

摘要

본 발명은 일반식(Ia)로 나타내어지는 양이온을 함유하고 활성광선 또는 방사선의 조사에 의해 측쇄에 산성 음이온을 생성할 수 있는 이온성 구조 부위를 갖는 반복 단위(A)를 함유하는 수지(P)를 포함하는 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물을 제공한다. (여기에서, R~R는 각각 독립적으로 수소 원자 또는 1가의 치환기를 나타내고, 서로 결합하여 환을 형성해도 좋으며, Z는 단일 결합 또는 2가의 연결기를 나타낸다.)