发明名称 |
方法、对齐标记和硬掩模材料的使用 |
摘要 |
在一种用于生产对齐标记的方法中,氧化物层和牺牲层被处理以包含凹槽。所述凹槽由填充材料填充。在填充凹槽的过程中,一层填充材料形成在牺牲层上。所述填充材料层通过化学机械抛光去除。所述牺牲层在填充凹槽和去除填充材料层的过程中保护所述氧化物层。然后通过刻蚀去除牺牲层。这提供了一种具有凸起的氧化物层。具有凸起的氧化物层覆盖有导电层,由此所述凸起刺穿氧化物层以形成相关的凸起。所述相关的凸起形成对齐标记。 |
申请公布号 |
CN101162368A |
申请公布日期 |
2008.04.16 |
申请号 |
CN200710180926.3 |
申请日期 |
2007.10.09 |
申请人 |
ASML荷兰有限公司 |
发明人 |
理查德·约翰尼斯·弗郎西斯克斯·范哈恩;埃维哈德斯·康尼利斯·摩斯 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
王新华 |
主权项 |
1.一种方法,其特征在于包括步骤:提供具有第一侧的衬底(1000),所述第一侧具有第一层(1010);在所述第一层上沉积牺牲层(1020);在至少延伸入第一层的牺牲层上形成一个或多个凹槽(1030);在所述一个或多个凹槽中沉积填充材料,由此也在所述牺牲层上形成由填充材料构成的第二层(1040);从牺牲层去除第二层;以及通过采用避免刮伤所述第一层的第一工艺去除所述牺牲层。 |
地址 |
荷兰维德霍温 |