IMPLANTATION PROCESS USING SUB-STOICHIOMETRIC, OXYGEN DOSES AT DIFFERENT ENERGIES,申请号EP20010932852-传众专利搜索

发明名称	IMPLANTATION PROCESS USING SUB-STOICHIOMETRIC, OXYGEN DOSES AT DIFFERENT ENERGIES
摘要
申请公布号	EP1279194(B1)	申请公布日期	2007.08.29
申请号	EP20010932852	申请日期	2001.05.02
申请人	IBIS TECHNOLOGY, INC.	发明人	DOLAN, ROBERT, P.;CORDTS, BERNHARDT, F.;ANC, MARIA, J.;ALLES, MICHAEL, L.
分类号	H01L21/265;H01L21/762;H01L21/02;H01L27/12	主分类号	H01L21/265
代理机构		代理人
主权项
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