ZnO薄膜生长用光照MOCVD设备及其p型掺杂工艺

摘要

本发明属于半导体发光器件及其制备方法技术领域，具体涉及一种ZnO薄膜专用光照辅助生长金属有机物化学气相沉积(MOCVD)设备系统及其工艺方法和p型掺杂技术。其特征是在反应室内装有光源(19)，在反应室侧壁上装有带绝缘电极的法兰盘(20)，还添加了光源控制电源(23)，光源通过导线连接在绝缘电极上(21)，再连接到光源控制电源上。本发明的优点是可以降低加热片的温度，可以快速升温，快速降温，进行衬底快速调制加热生长ZnO薄膜；光照还有利于杂质源的离化和杂质激活；同时又能解决p型ZnO见光退化不稳定问题，达到老化和稳定p型掺杂的目的。

主权项

1.一种MOCVD设备反应室，由带有抽气孔(8)的底座法兰盘(1)、反应室侧壁(2)、旋转轴(3)、磁流体轴承(4)、电机(5)、上法兰盘(6)、不锈钢丝网(7)、加热片(9)、衬底片托盘(10)，杂质源气路(11)，两个副气路(12、13)、混气室(14)、锌源喷枪(15)、氧源喷枪(16)、匀气套(17)和射频等离子发生器(18)部件构成，其特征在于：在反应室内装有光源(19)，在反应室侧壁(2)上装有带绝缘电极(21)的法兰盘(20)，此外还添加了光源控制电源(23)，光源(19)通过导线连接在绝缘电极(21)上，再连接到光源控制电源(23)上。