发明名称 |
静电放电保护电路元件 |
摘要 |
一种静电放电保护电路元件,其包括N型横向扩散金属氧化物半导体(LDNMOS)元件,该LDNMOS元件包括P型基底以及N型深井区。P型基底包括第一区域与第二区域。N型深井区位于P型基底的第一区域与第二区域之内。该LDNMOS元件还包括位于第一区域区与第二区域之间的P型基底上的栅极;位于第一区域内的P型注入区;位于第一区域的N型深井区中的N型阶区;位于N型阶区中的N型第一掺杂区;位于第二区域内的P型基体区;位于P型基体区中的N型第二掺杂区;以及位于P型基体区中与N型第二掺杂区相邻的P型掺杂区。 |
申请公布号 |
CN101645447A |
申请公布日期 |
2010.02.10 |
申请号 |
CN200810146107.1 |
申请日期 |
2008.08.06 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
赵美玲;陈家芸;赖泰翔;唐天浩 |
分类号 |
H01L27/04(2006.01)I;H01L27/088(2006.01)I;H01L29/78(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
彭久云 |
主权项 |
1.一种静电放电保护电路元件,其包括至少一个横向扩散金属氧化物半导体元件,该横向扩散金属氧化物半导体元件包括:具有第一导电型的基底,该基底包括第一区域与第二区域;具有第二导电型的深井区,位于该基底的该第一区域与该第二区域之内;栅极,位于该第一区域与该第二区域之间的该基底上;具有第一导电型的注入区,位于该基底的该第一区域内;具有第二导电型的阶区,位于该第一区域的该深井区中;具有该第二导电型的第一掺杂区,位于该阶区中;具有该第一导电型的基体区,位于该第二区域的该深井区中;具有该第二导电型的第二掺杂区,位于该基体区中;以及具有该第一导电型的掺杂区,位于该基体区中,与该第二掺杂区相邻。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |