发明名称 图案形成方法
摘要 本发明涉及一种图案形成方法,该图案形成方法具有:第1工序,在具有显示防液性的凹部和显示亲液性的凸部的凹凸结构体上按照覆盖凹部和凸部的方式形成表面平坦的膜;和第2工序,使膜干燥从而形成图案。
申请公布号 CN104160487B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201380012381.9 申请日期 2013.02.20
申请人 富士胶片株式会社 发明人 宫本公明
分类号 H01L21/3205(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I;H01L21/288(2006.01)I;H01L21/336(2006.01)I;H01L21/768(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I 主分类号 H01L21/3205(2006.01)I
代理机构 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人 丁香兰;孟伟青
主权项 一种图案形成方法,其特征在于,该图案形成方法具有:第1工序,在具有显示防液性的凹部和显示亲液性的凸部的凹凸结构体上按照覆盖所述凹部和所述凸部的方式形成表面平坦的膜;和第2工序,使所述膜干燥从而形成图案;将表面张力设定为σ、将膜厚设定为δ、将由所述显示防液性的凹部和所述显示亲液性的凸部构成的凹凸的间距设定为p、将哈梅克常数设定为a<sub>H</sub>时,所述膜使用满足σ&gt;0.153p<sup>1.947</sup>×δ<sup>‑3.84</sup>×|a<sub>H</sub>|<sup>1.022</sup>的涂布液来形成,其中,所述表面张力σ的单位为N/m,所述膜厚δ的单位为m,所述间距p的单位为m,所述哈梅克常数a<sub>H</sub>的单位为J,存在2个以上哈梅克常数时,将它们之中负数绝对值最大的常数作为所述表面张力中的哈梅克常数a<sub>H</sub>。
地址 日本东京都