发明名称 |
FORMULIERUNG FÜR EINE VERBUNDPOLIERSCHICHT FÜR EIN CHEMISCH-MECHANISCHES POLIERKISSEN |
摘要 |
Es wird ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, enthaltend: eine Polierschicht, die eine Polieroberfläche aufweist, wobei die Polierschicht eine erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase und eine zweite nicht-flüchtige polymere Phase umfasst, wobei die erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase eine Mehrzahl von periodischen Vertiefungen aufweist, wobei die Mehrzahl von periodischen Vertiefungen von der zweiten nicht-flüchtigen polymeren Phase eingenommen wird, wobei die erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase eine offenzellige Porosität von ≤ 6 Vol.-% aufweist, wobei die zweite nicht-flüchtige polymere Phase eine offenzellige Porosität von ≥ 10 Vol.-% enthält und wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist. |
申请公布号 |
DE102016007767(A1) |
申请公布日期 |
2016.12.29 |
申请号 |
DE20161007767 |
申请日期 |
2016.06.24 |
申请人 |
Dow Global Technologies LLC;Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc. |
发明人 |
Qian, Bainian;Kozhukh, Julia;Brufau, Teresa Brugarolas;Lugo, Diego;Jacob, George C.;Miller, Jeffrey B.;Tran, Tony Quan;Stack, Marc R.;Hendron, Jeffrey James |
分类号 |
B24B37/24;B24D13/00;H01L21/304 |
主分类号 |
B24B37/24 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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