发明名称 FORMULIERUNG FÜR EINE VERBUNDPOLIERSCHICHT FÜR EIN CHEMISCH-MECHANISCHES POLIERKISSEN
摘要 Es wird ein chemisch-mechanisches Polierkissen bereitgestellt, enthaltend: eine Polierschicht, die eine Polieroberfläche aufweist, wobei die Polierschicht eine erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase und eine zweite nicht-flüchtige polymere Phase umfasst, wobei die erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase eine Mehrzahl von periodischen Vertiefungen aufweist, wobei die Mehrzahl von periodischen Vertiefungen von der zweiten nicht-flüchtigen polymeren Phase eingenommen wird, wobei die erste kontinuierliche nicht-flüchtige polymere Phase eine offenzellige Porosität von ≤ 6 Vol.-% aufweist, wobei die zweite nicht-flüchtige polymere Phase eine offenzellige Porosität von ≥ 10 Vol.-% enthält und wobei die Polieroberfläche zum Polieren eines Substrats angepasst ist.
申请公布号 DE102016007767(A1) 申请公布日期 2016.12.29
申请号 DE20161007767 申请日期 2016.06.24
申请人 Dow Global Technologies LLC;Rohm and Haas Electronic Materials CMP Holdings, Inc. 发明人 Qian, Bainian;Kozhukh, Julia;Brufau, Teresa Brugarolas;Lugo, Diego;Jacob, George C.;Miller, Jeffrey B.;Tran, Tony Quan;Stack, Marc R.;Hendron, Jeffrey James
分类号 B24B37/24;B24D13/00;H01L21/304 主分类号 B24B37/24
代理机构 代理人
主权项
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