发明名称 |
遗传修饰的宿主细胞及其用于生产类异戊二烯化合物的应用 |
摘要 |
本发明提供了产生类异戊二烯前体或类异戊二烯化合物的遗传修饰的真核宿主细胞。所述遗传修饰的宿主细胞含有活性水平提高的一种或多种甲羟戊酸途径酶、活性水平提高的异戊烯基转移酶和活性水平降低的鲨烯合酶。本发明提供了在所述遗传修饰的真核宿主细胞中产生类异戊二烯化合物或类异戊二烯前体的方法。该方法通常包括在促进产生高水平的类异戊二烯或类异戊二烯前体化合物的条件下培养所述遗传修饰的宿主细胞。 |
申请公布号 |
CN101001947A |
申请公布日期 |
2007.07.18 |
申请号 |
CN200580025119.3 |
申请日期 |
2005.07.21 |
申请人 |
加利福尼亚大学董事会 |
发明人 |
J·D·基斯林;E·M·帕若蒂斯;J·柯比 |
分类号 |
C12N1/15(2006.01);C12N1/16(2006.01);C12N1/18(2006.01);C12N5/10(2006.01);C12N15/10(2006.01);C12N15/31(2006.01);C12N15/12(2006.01);C12N15/63(2006.01);C12N15/64(2006.01) |
主分类号 |
C12N1/15(2006.01) |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 |
代理人 |
范征 |
主权项 |
1.一种遗传修饰的真核宿主细胞,所述遗传修饰的真核宿主细胞通过甲羟戊酸途径产生类异戊二烯或类异戊二烯前体化合物,该遗传修饰的真核宿主细胞包含提供以下特征的遗传修饰:a)一种或多种甲羟戊酸途径酶的活性水平提高,b)异戊烯基转移酶的活性水平提高,和c)鲨烯合酶活性水平降低其中所述遗传修饰所产生的类异戊二烯或类异戊二烯前体化合物的水平比不包含所述遗传修饰的对照细胞中的类异戊二烯或类异戊二烯前体化合物水平高至少约50%。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |