一种Sn掺杂Bi₂S₃光学薄膜的制备方法

摘要

一种Sn掺杂Bi₂S₃光学薄膜的制备方法，将分析纯的Bi(NO₃)₃·5H₂O加入蒸馏水中所得溶液记为A；向A溶液中加入分析纯的Na₂S₂O₃和柠檬酸三钠所得溶液记为B；将分析纯的SnCl₂·2H₂O加入蒸馏水中所得溶液记为C；向B溶液中加入C溶液，所得溶液记为D；将D溶液置于电沉积装置中，将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极，采用石墨为阳极，用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备Sn掺杂Bi₂S₃薄膜；沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干，即得到Sn掺杂Bi₂S₃光学薄膜。本发明采用电沉积法制备得到微观形貌均匀的Sn掺杂Bi₂S₃光学薄膜。此方法设备简单，操作简便，无需昂贵的真空装置，可低成本高效的得到Sn掺杂Bi₂S₃光学薄膜。

主权项

1、一种Sn掺杂Bi2S3光学薄膜的制备方法，其特征在于：1)首先将分析纯的Bi(NO3)3·5H2O加入蒸馏水中，并将其置于超声波发生器中超声分散，配制成Bi3+浓度为0.01mol/L～0.5mol/L的透明溶液，所得溶液记为A；2)然后，向A溶液中加入分析纯的Na2S2O3和柠檬酸三钠，使得混合溶液中[Bi3+]∶[S2O32-]∶[C6H5O73-]＝1∶4～7∶1的摩尔比，搅拌下调节pH值为4.3～6.5，所得溶液记为B；3)将分析纯的SnCl2·2H2O加入蒸馏水中，配置成Sn2+离子浓度为1.25mmol/L的透明溶液，所得溶液记为C；4)向B溶液中加入B溶液0.2％～5％体积分数的C溶液，形成前驱物溶液，所得溶液记为D；5)将D溶液置于电沉积装置中，将ITO玻璃基板在乙醇中超声清洗作为阴极，采用石墨为阳极，用阴极恒电压沉积的方式在ITO玻璃基板上制备Sn掺杂Bi2S3薄膜；沉积电压为0.5～10V，沉积时间为10～30min，沉积结束后将所制备的薄膜在空气中自然晾干，即得到Sn掺杂Bi2S3光学薄膜。