| 发明名称 | 使用两个温度传感装置调整CVD反应器过程室内温度的设备和方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于热处理，尤其用于涂敷底物(9)的设备和方法，包括由与第一温度传感装置(7、12)配合工作的调整器(13)调整的加热装置(11)。为防止温度偏移，建议第二温度传感装置(8)用于识别第一温度传感装置(7、12)的温度偏移和再校准第一温度传感装置(7、12)。第一温度传感装置(7、12)确定在敏感体(10)第一位置(M<sub>1</sub>、M<sub>2</sub>、M<sub>3</sub>、M<sub>4</sub>、M<sub>5</sub>、M<sub>6</sub>)的温度。第二温度传感装置(8)确定在敏感体(10)第二位置的温度。在测量间隔，用第二温度传感装置(8)测量尤其底物(9)的表面温度。将这一测量值与额定值比较，此时，若额定值偏离测得的实际值则形成修正系数，将修正系数加入第一温度传感装置(7、12)的用于调整加热装置(11)的测量值，目的是使由第二温度传感装置(8)测得的温度实际值能接近相关的温度额定值。 | ||
| 申请公布号 | CN105934659A | 申请公布日期 | 2016.09.07 |
| 申请号 | CN201480074076.7 | 申请日期 | 2014.12.15 |
| 申请人 | 艾克斯特朗欧洲公司 | 发明人 | A.博伊德;P.S.劳弗;J.林德纳;H.席尔瓦;A.泰勒斯 |
| 分类号 | G01J5/00(2006.01)I;G01J5/60(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 主分类号 | G01J5/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 侯宇 |
| 主权项 | 一种用于热处理，尤其用于涂敷至少一个底物(9)的设备，包括由与第一温度传感装置(7、12)配合工作的调整器(13)调整的加热装置(11)，其中，第一温度传感装置(7、12)测量在敏感体(10)上侧的第一个温度，所述至少一个底物在处理时安放在此敏感体(10)上，以及包括第二温度传感装置(8)，它测量敏感体(10)上侧的第二个温度，用于干预并校正调整器(13)，目的是将底物(9)的表面温度调整到处理温度，其特征为：第一温度传感装置(7、12)设计和配置为使它测量敏感体(9)上侧的表面温度，而与第一温度传感装置(7、12)相比对较短的波长更敏感的第二温度传感装置(8)设计和配置为，使它测量底物(9)表面或在底物(9)表面上沉积层的表面温度。 | ||
| 地址 | 德国黑措根拉特 | ||