发明名称 ROTATABLE FRAME FOR A LITHOGRAPHIC APPARATUS
摘要 방사 빔을 타겟 상으로 투영하도록 구성된 투영 시스템은, 접선 방향 및 방사상 방향을 정하는 축을 중심으로 회전하도록 구성되는 회전 가능 프레임(8)과, 여기서 회전 가능 프레임은 접선 방향 또는 방사상 방향으로만 방사 빔을 포커싱하도록 구성된 렌즈를 유지함; 접선 방향 또는 방사상 방향 중의 다른 하나의 방향으로만 방사 빔을 포커싱하도록 구성된 실질적으로 정지 상태의 렌즈를 포함하는 정지부를 포함한다. 회전 가능 프레임에 의해 유지된 렌즈에 모멘트가 가해지는 것을 방지하기 위한 방안이 제공된다.
申请公布号 KR101688444(B1) 申请公布日期 2016.12.21
申请号 KR20147029049 申请日期 2013.01.30
申请人 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 发明人 블리커 아르노;카스텐밀러 토마스;드 야거 피터;멀더 하이네;자알 코엔;캐디 테오도루스 페트루스 마리아;필립스 대니;비렌스 루드;티머만스 로저
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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