发明名称 |
等离子处理单元 |
摘要 |
本发明提供了一种等离子处理单元,包括:处理容器,其顶部开口,并且其中能产生真空;平台,其设置在所述处理容器中,用于在其上设置将被处理的物体;上板,其由电介质制成,所述上板密封地装配在所述开口中,并允许微波从其中穿过;平面天线元件,其设置在所述上板上或上方,所述平面天线元件具有多个微波辐射孔,以向所述处理容器内部辐射用于等离子发生的微波;慢波元件,其设置在所述平面天线元件上或上方,用于缩短微波的波长;和微波干扰抑制部,其设置在所述上板的下表面上,所述微波干扰抑制部将所述下表面分成多个同心区域,并在所述区域间抑制微波干扰。 |
申请公布号 |
CN101002509A |
申请公布日期 |
2007.07.18 |
申请号 |
CN200580024959.8 |
申请日期 |
2005.07.21 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
田才忠;石桥清隆;北川淳一;野泽俊久 |
分类号 |
H05H1/46(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/205(2006.01) |
主分类号 |
H05H1/46(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种等离子处理单元,包括:处理容器,其顶部开口,并且其中能产生真空;平台,其设置在所述处理容器中,用于在其上设置将被处理的物体;上板,其由电介质制成,所述上板气密地装配在所述开口中,并允许微波从其中穿过;平面天线元件,其设置在所述上板上或上方,所述平面天线元件具有多个微波辐射孔,以向所述处理容器内部辐射用于发生等离子的微波;慢波元件,其设置在所述平面天线元件上或上方,用于缩短微波的波长;和微波干扰抑制部,其设置在所述上板的下表面上,所述微波干扰抑制部将所述下表面分成多个同心区域,并在所述区域间抑制微波干扰。 |
地址 |
日本东京 |