| 发明名称 | 研磨液及化学机械研磨方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种研磨液，包括研磨原料，该研磨原料内至少具有研磨颗粒及去离子水，且所述研磨液内还加入了去离子水及添加剂。本发明还公开了对应的一种化学机械研磨方法。采用本发明的研磨液及化学机械研磨方法，可以节约研磨原料的使用量，实现在不增加生产成本的情况下，提高研磨质量。 | ||
| 申请公布号 | CN101457136A | 申请公布日期 | 2009.06.17 |
| 申请号 | CN200710094547.2 | 申请日期 | 2007.12.13 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 | 发明人 | 李健;刘俊良 |
| 分类号 | C09K3/14(2006.01)I;H01L21/304(2006.01)I | 主分类号 | C09K3/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人 | 董立闽;李 丽 |
| 主权项 | 1、一种研磨液，包括研磨原料，该研磨原料内至少具有研磨颗粒及去离子水，其特征在于：所述研磨液内还加入了去离子水及添加剂。 | ||
| 地址 | 201203上海市浦东新区张江路18号 | ||