发明名称 |
一种片层状硼掺杂有序介孔炭及其制备方法 |
摘要 |
本发明涉及一种片层状硼掺杂有序介孔炭及其制备方法,以三嵌段聚合物为结构导向剂或模板剂,热固性的甲阶酚醛树脂为碳源,硼酸作为甲阶酚醛树脂固化剂同时也作为硼源进行硼原子原位掺杂,将配置成适宜浓度的溶液进行溶剂蒸发诱导相分离自组装,随后通过热固化稳定材料有序多孔的结构,最后炭化制备得到片层状硼掺杂有序介孔炭。该制备方法的实验设备简单、易于控制、没有繁琐后处理工序,所制备的片层状硼掺杂有序介孔炭硼含量高、孔道结构完整、表面积高、具有高介孔比例,适用于超级电容器及氧气还原反应催化剂的担载基底。 |
申请公布号 |
CN105776177A |
申请公布日期 |
2016.07.20 |
申请号 |
CN201610139347.3 |
申请日期 |
2016.03.11 |
申请人 |
北京化工大学 |
发明人 |
王峰;刘海静;何杨;刘景军;李志林;吉静;窦美玲;宋夜 |
分类号 |
C01B31/02(2006.01)I |
主分类号 |
C01B31/02(2006.01)I |
代理机构 |
北京五月天专利商标代理有限公司 11294 |
代理人 |
王天桂 |
主权项 |
一种片层状硼掺杂有序介孔炭,其特征在于,以三嵌段聚合物为结构导向剂或模板剂,热固性的甲阶酚醛树脂为碳源,硼酸作为甲阶酚醛树脂固化剂同时也作为硼源进行硼原子原位掺杂,将配置得到的溶液进行溶剂蒸发诱导相分离自组装,随后通过热固化稳定材料有序多孔的结构,最后炭化制备得到片层状硼掺杂有序介孔炭。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北三环东路15号 |