| 发明名称 |
SEMICONDUCTOR FABRICATION METHOD AND SEMICONDUCTOR FABRICATION EQUIPMENT |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
KR20060066152(A) |
申请公布日期 |
2006.06.15 |
| 申请号 |
KR20060044607 |
申请日期 |
2006.05.18 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
SATORU KAWAKAMI;SHIGEMI MURAKAWA;MITSUHIRO YUASA;TOSHIAKI HONGO |
| 分类号 |
H01L21/31;H01L21/314;H01L21/316;H01L21/318 |
主分类号 |
H01L21/31 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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