TECNOLOGIA DE PRODUCCION DE SILICIO POLICRISTALINO A PARTIR DE SOLUCION DE ACIDO FLUOROSILICICO E INSTALACION PARA LA PRODUCCION DE ESTE

摘要

QUE COMPRENDE LO SIGUIENTE: SE PRODUCE FLUOSILICATO ORGANOSOLUBLE A PARTIR DE SOLUCION DE ACIDO FLUOROSILICICO POR INTERACCION ENTRE ACIDO FLUOROSILICICO Y BASE ORGANICA; LA SAL RECOGIDA DEL ACIDO FLUOROSILICICO SE SECA CON AIRE O GAS INERTE A LA TEMPERATURA DE 55-60�C; SE PRODUCE TETRAFLUORO DE SILICIO GASEOSO A PARTIR DE FLUOSILICATO; SE PRODUCE TETRAFLUORURO DE SILICIO GASEOSO POR DESCOMPOSICION DE FLUOSILICATO EN TETRAFLUORURO DE SILICIO Y FLUORURO DE HIDROGENO GASEOSOS; EL TETRAFLUORURO DE SILICIO Y FLUORURO DE HIDROGENO PRODUCIDOS SIN SEPARAR SE PASAN A TRAVES DE DIOXIDO DE SILICIO EN PRESENCIA DE ACIDO PIROSULFURICO; SE REDUCE EL SILICIO DEL TETRAFLUORURO DE SILICIO GENERADO MEDIANTE DE VAPOR DE MAGNESIO A TEMPERATURA NO MAYOR DE 1000�C; LOS PRODUCTOS DE REACCION QUE SON MEZCLA DE POLVO DE SILICIO Y FLUORURO DE MAGNESIO SE SEPARAN CON PRODUCCION SIMULTANEA DE SILICIO POLICRISTALINO EN FORMA DE POLVO ESFERICO; EL SILICIO POLICRISTALINO PRODUCIDO SE SEPARA DEL FLUORURO DE MAGNESIO