发明名称 Verfahren zum Bearbeiten eines Einzelkristallsubstrats
摘要 Offenbart wird ein Verfahren zum Bearbeiten eines Einzelkristallsubstrats, um das Einzelkristallsubstrat entlang einer Vielzahl von vorgegebenen Aufteilungslinien zu unterteilen, umfassend einen Schildtunnelausbildungsschritt zum Applizieren eines gepulsten Laserstrahls mit einer Wellenlänge, welche durch das Einzelkristallsubtrat hindurchgeht, auf das Einzelkristallsubstrat entlang der Aufteilungslinien, um Schildtunnel in dem Einzelkristallsubstrat entlang der Aufteilungslinien auszubilden, wobei jeder ein feines Loch und einen amorphen Bereich, der das feine Loch abschirmt, aufweist, einen Schutzelementanhaftschritt zum Anhaften eines Schutzelements an das Einzelkristallsubstrat vor oder nach dem Schildtunnelausbildungsschritt, und einen Schleifschritt zum Halten des Schutzelements auf dem Einzelkristallsubstrat, an welchem der Schildtunnelausbildungsschritt und der Schutzelementanhaftschritt ausgeführt wurden, auf einem Spanntisch einer Schleifvorrichtung, zum Schleifen einer Rückseite des Einzelkristallsubstrats, um das Einzelkristallsubstrat auf eine vorbestimmte Dicke zu bringen, und zum Aufteilen des Einzelkristallsubstrats entlang der Aufteilungslinien, entlang welcher die Schildtunnel ausgebildet wurden.
申请公布号 DE102016203836(A1) 申请公布日期 2016.09.15
申请号 DE201610203836 申请日期 2016.03.09
申请人 DISCO CORPORATION 发明人 Morikazu, Hiroshi;Takeda, Noboru;Shotokuji, Takumi
分类号 H01L21/301;B23K26/40;H01L21/304 主分类号 H01L21/301
代理机构 代理人
主权项
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