| 摘要 |
Фрактально-матричное устройство, содержащее подложку, на которую нанесено N слоев фрактально-матричных резонаторов, выполненных в виде аппликаторов с различной удельной поверхностной интенсивностью, причем аппликатор (аппликаторы) в одном или более слоях имеют размеры меньшие, чем размер подложки, отличающееся тем, что удельная поверхностная интенсивность аппликаторов в каждом из слоев увеличивается по мере удаления от плоскости подложки, сама подложка имеет удельную поверхностную интенсивность, равную нулю или меньшую, чем у первого слоя аппликаторов, а аппликаторы, имеющие размеры меньшие, чем размеры подложки, расположены коаксиально с осевой симметрией, причем ось симметрии расположена перпендикулярно плоскости подложки и проходит через ее геометрический центр, в центральной части подложки в последнем (последних) слое (слоях) может быть расположен один или более аппликаторов с одинаковой удельной поверхностной интенсивностью, а удельная поверхностная интенсивность остальных аппликаторов в пределах одного слоя снижается по мере их удаления от центра подложки, причем аппликаторы, равноудаленные от центра подложки в пределах одного слоя, имеют равную удельную поверхностную интенсивность, а порядок осей симметрии у аппликаторов, расположенных на разных расстояниях от центра подложки, может не совпадать. |
