发明名称 光掩模及图案形成方法
摘要 本发明公开了一种光掩模、及图案形成方法。本发明的目的在于:提供一种光掩模,该光掩模能够形成较好再现的相互交叉或者合流的多个狭缝图案。光掩模,在透过性衬底上,包括:彼此间隔相同分开设置的3个以上的叠片状第1遮光部分110a、与第1遮光部分110a邻接形成的第3遮光部分110c、以及被第1遮光部分110a和第3遮光部分110c包围形成的狭缝状第1透光部分。第3遮光部分110c,以包含距3个以上的所述第1遮光部分110a的距离相同的点的形式形成。通过使用本光掩模,能够用同一个工序形成连接孔图案、和蜂窝状连接孔图案。
申请公布号 CN100403166C 申请公布日期 2008.07.16
申请号 CN200410084972.X 申请日期 2004.10.08
申请人 松下电器产业株式会社 发明人 野田研二;桥本伸
分类号 G03F1/08(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F1/08(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种光掩模,其特征在于:在透光性衬底上,包括:对曝光的光具有遮光性的、彼此间隔相同分开设置的3个以上的叠片状第1遮光部分,对所述曝光的光具有遮光性的、与所述第1遮光部分邻接形成的第2遮光部分,以及对所述曝光的光具有透光性的、被所述第1遮光部分和所述第2遮光部分包围形成的狭缝状第1透光部分;所述第2遮光部分,以包含距所述3个以上的所述第1遮光部分的距离相同的点的形式形成。
地址 日本大阪府