发明名称 光电元件及其制造方法
摘要 本发明提供一种光电元件,包含:第一电极、基底形成于第一电极上;缓冲层形成于基底上,其中该缓冲层包含:含第一含氮化合物层形成在基底上、第二含氮化合物层、及五族/二族化合物层形成在第一含氮化合物层及第二含氮化合物层之间;接着,第一半导体导电层形成在缓冲层上;主动层形成在第一半导体导电层上,其中主动层为具有多个不规则且高低起伏形状的多层量子井;第二半导体导电层形成在主动层上;透明导电层形成于第二半导体导电层上;及第二电极形成在透明导电层上。
申请公布号 CN101388425A 申请公布日期 2009.03.18
申请号 CN200710145487.2 申请日期 2007.09.14
申请人 广镓光电股份有限公司 发明人 蔡宗良;李玉柱
分类号 H01L33/00(2006.01)I 主分类号 H01L33/00(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 代理人 高 翔
主权项 1. 一种光电元件的磊晶堆叠结构,包含:基底;缓冲层,包含;第一含氮化合物层,形成于该基底上;及五族/二族化合物层,形成于该第一含氮化合物上;发光元件的磊晶堆叠结构,形成于该缓冲层上,该磊晶堆叠结构包含:第一半导体导电层,形成于该缓冲层上;主动层,形成于该第一半导体导电层上,且多个中介材料微粒散布于该第一半导体导电层与该主动层之间,以使得该主动层具有多个不规则且高低起伏的形状;及第二半导体导电层,形成于该主动层上。
地址 中国台湾台中市工业区34路40号