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<p>표시 장치 및 그의 제조 방법에서, 표시 장치는 화소 영역, 트랜지스터 영역 및 캐패시터 영역을 갖는 기판과, 기판의 트랜지스터 영역에 위치하는 트랜지스터 및 기판의 캐패시터 영역에 위치하는 캐패시터를 포함하며, 캐패시터는 기판 상에 위치하는 하부 전극 및 게이트 절연막을 사이에 두고 하부 전극과 중첩되어 제 1 도전 물질 및 제 2 도전 물질의 적층으로 형성되는 상부 전극을 포함하고, 제 1 도전 물질은 불투명 도전 물질로 형성된다.</p> |
