发明名称 Apparatus to Sputter
摘要 <p>스퍼터 장치가 개시된다. 본 발명의 스퍼터 장치는, 챔버 바디 내에서 증착 위치에 놓인 기판을 향하여 증착 물질을 제공하는 스퍼터 소스(sputter source)로서의 타겟; 및 타겟에 대해 적어도 일 방향으로 상대 위치 조정 가능한 다수의 마그네트를 구비하며, 타겟의 일측에 배치되어 기판과의 사이에 증착을 위한 자기장을 발생시키는 마그네트 유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 의하면, 타겟에 대한 마그네트의 위치를 손쉽게 조정하면서 세팅할 수 있어 종래기술 대비 마그네트의 세팅 작업에 따른 실패 비용 및 시간 손실을 현저하게 감소시킬 수 있다.</p>
申请公布号 KR101209651(B1) 申请公布日期 2012.12.07
申请号 KR20100023465 申请日期 2010.03.16
申请人 发明人
分类号 C23C14/34;C23C14/35;C23C14/50 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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